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dc.contributor.advisorHummelgen, Ivo Alexandre, 1963-pt_BR
dc.contributor.otherMello, Regina Maria Queiroz de, 1965-pt_BR
dc.contributor.otherUniversidade Federal do Paraná. Setor de Tecnologia. Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Ciência dos Materiais - PIPEpt_BR
dc.creatorSilva, Wilson Jose dapt_BR
dc.date.accessioned2024-12-10T18:10:41Z
dc.date.available2024-12-10T18:10:41Z
dc.date.issued2009pt_BR
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/1884/19156
dc.descriptionOrientador: Ivo Alexandre Hümmelgenpt_BR
dc.descriptionCoorientadora: Regina Maria Queiroz de Mellopt_BR
dc.descriptionInclui apendicept_BR
dc.descriptionTese (doutorado) - Universidade Federal do Paraná, Setor de Tecnologia, Programa de Pós-Graduação em Engenharia - PIPE. Defesa: Curitiba, 13/03/2009pt_BR
dc.descriptionInclui bibliografiapt_BR
dc.descriptionÁrea de concentração: Engenharia e Ciências de Materiaispt_BR
dc.description.abstractResumo: Este trabalho tem como objetivo produzir e otimizar transistores híbridosde base pseudo-metálica utilizando polianilina sulfonada (SP AN), polímero autodopado.O dispositivo consiste de um substrato semicondutor inorgâanico de Silíciodo tipo n, usado como coletor de elétrons. Sobre este é depositado a base pseudo-metálica de SP AN e, por último, o emissor orgânico de fulereno C60.A SP AN pode ser conseguida com condutividade bastante elevada, levando a dispositivos com melhor desempenho e menor restrição quanto à arquitetura empregada. Dois modos distintos de operação são investigados: base comum e emissorcomum. Vários dispositivos com diferentes espessuras de base foram confeccionadose comparados, na tentativa de uma melhor compreensão do transporte de elétronsatravés da base.Para melhorar o processo de injeção de elétrons do emissor C60, para dentroda base de SP AN, foi utilizada uma camada de ~ 2,5 nm de V2O5.Medidas em modo AC foram feitas para investigar a faixa de frequência em que o dispositivo opera.pt_BR
dc.description.abstractAbstract: The aim of this work is the preparation and optimization of hybrid transistorswith pseudo metalic base using sulfonated polyaniline, SP AN, a self-doped polymer.The device consists of an inorganic semiconductor substrate, n-type silicon, used as acollector of electrons. On the colector the pseudo-metallic base, SP AN, and finally,the organic emitter, fullerene C60, were deposited. The SP AN can be achieved withvery high conductivity, potentially leading to devices with better performance andlower restrictions concerning architecture.Two distinct operation modes are investigated: common base and commonemitter. Several devices with different base thickness were compared in an attempt tobetter understand how the transport of electrons through the base can be optimized.To improve the process of electrons injection from the emitter at the base, athin layer of V2O5 was evaporated on top of C60.AC Measurements were made to investigate the frequency range in whichthe device operates.pt_BR
dc.format.extentx, 95f. : il. algumas color., grafs.pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdfpt_BR
dc.languagePortuguêspt_BR
dc.relationDisponível em formato digitalpt_BR
dc.subjectTransistores bipolarespt_BR
dc.subjectPolimerospt_BR
dc.subjectSemicondutorespt_BR
dc.subjectEngenharia de Materiais e Metalurgiapt_BR
dc.titleTransistores híbridos com base pseudo-metálica quimicamente depositadapt_BR
dc.typeTesept_BR


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