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Caracterização de filmes de cobalto eletrodepositados sobre silicio tipo-P
(1995)
Resumo: Filmes de cobalto foram depositados sobre silício (100) e (111) (tipo-p, dopado com boro) utilizando técnica eletroquímica. A deposição forneceu filmes uniformes e que apresentam boa aderência. São discutidos ...
Modelo e resultado para um nivel profundo com duas configurações diferentes em Hg0.3Cd0.7Te
(1996)
Resumo: No presente trabalho desenvolve-se um modelo para um defeito que apresenta duas configurações controladas pelo seus dois estados de carga. Descreve-se matematicamente a cinética de captura e emissão durante as fases ...